-
1 sputter etching
Большой англо-русский и русско-английский словарь > sputter etching
-
2 sputter etching
Англо-русский словарь технических терминов > sputter etching
-
3 sputter etching
1) Техника: травление распылением2) Электроника: травление методом распыления3) Микроэлектроника: реактивное травление (травление методом реактивного распыления)4) Макаров: точечная вытравка -
4 sputter etching
-
5 sputter etching
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > sputter etching
-
6 sputter etching
English-Russian dictionary of microelectronics > sputter etching
-
7 sputter etching
-
8 RF sputter etching
Электроника: травление методом ВЧ-распыления -
9 reactive sputter etching
1) Техника: реактивное травление распылением2) Микроэлектроника: травление методом реактивного распыленияУниверсальный англо-русский словарь > reactive sputter etching
-
10 RF sputter etching
-
11 RF sputter etching
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > RF sputter etching
-
12 rf sputter etching
English-Russian dictionary of electronics > rf sputter etching
-
13 ion-beam sputter etching
English-Russian electronics dictionary > ion-beam sputter etching
-
14 ion-beam sputter etching
The New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > ion-beam sputter etching
-
15 ion-beam sputter etching
1) Электроника: ионное травление2) Макаров: ионно-лучевое травлениеУниверсальный англо-русский словарь > ion-beam sputter etching
-
16 ion-beam sputter etching
English-Russian dictionary of electronics > ion-beam sputter etching
-
17 etching
- channel etching
- deep etching
- dry etching
- dry plasma etching
- electrolytic etching
- gas etching
- ion etching
- ion-beam sputter etching
- isotropic etching
- jet etching
- lift-off etching
- mask etching
- masked etching
- mesa etching
- oxide etching
- photochemical etching
- photoresist-mask etching
- plasma etching
- reactive ion etching
- reactive plasma etching
- RF sputter etching
- selective etching
- silicon etching
- silicon dioxide etching
- sputter etching
- substraction etching
- surface etching
- thermal etching
- vapor etching
- vapor-phase etching
- wet etching -
18 etching
- channel etching
- deep etching
- dry etching
- dry plasma etching
- electrolytic etching
- gas etching
- ion etching
- ion-beam sputter etching
- isotropic etching
- jet etching
- lift-off etching
- mask etching
- masked etching
- mesa etching
- oxide etching
- photochemical etching
- photoresist-mask etching
- plasma etching
- reactive ion etching
- reactive plasma etching
- RF sputter etching
- selective etching
- silicon dioxide etching
- silicon etching
- sputter etching
- substraction etching
- surface etching
- thermal etching
- vapor etching
- vapor-phase etching
- wet etchingThe New English-Russian Dictionary of Radio-electronics > etching
-
19 etching
1) травление, протравливание2) гравирование3) гравюра4) клише•-
acid etching
-
anode etching
-
argon etching
-
deep etching
-
dip etching
- dry process etching -
dry etching
-
electrolytic etching
-
etching of grain boundaries
-
glue etching
-
ion-beam etching
-
ion etching
-
jet etching
-
liquid etching
-
matt etching
-
mat etching
-
mesa etching
-
multitone etching
-
neutral particle etching
-
one-bite etching
-
plasma reactor etching
-
plasma etching
-
powderless etching
-
reactive etching
-
selective etching
-
side etching
-
spray etching
-
sputter etching
-
thermal etching
-
undercutting etching
-
undercut etching
-
wet etching
-
window etching -
20 etching
1. травление (удаление поверхностного слоя материала под действием специально подбираемых химических реактивов)2. вытравливание (химическая или электрохимическая обработка поверхности материала с целью выявления структурных составляющих или гравировки)3. травящий4. травильныйacid etching — кислотное травление
anisotropic etching — ориентационное [анизотропное] травление
anodic etching — анодное травление ( в металлографии)
chemical etching — химическое травление
contour etching — фасонное травление
deep etching — глубокое травление, химическое фрезерование
electrochemical etching — электрохимическое травление
electrojet etching — электролитическое струйное травление
electrolytic etching — электролитическое травление
electron beam etching — травление электронным лучом
gas etching — газовое травление
ionic etching — ионное травление
ion-impulsive etching — ионное импульсное травление
jet etching — струйное травление
laser-indused thermal etching — тепловое травление излучением лазера
metallographic etching — металлографическое травление
photochemical etching — фотохимическое травление
potentiostatic etching — потенциостатическое травление
powderless etching — бесшламное травление
preliminary etching — предварительное травление
selective etching — избирательное травление
sputter etching — травление распылением
vacuum-cathodic etching — вакуумно-катодное травление
vapor phase etching — газофазное травление
English-Russian dictionary of aviation and space materials > etching
- 1
- 2
См. также в других словарях:
sputter etching — dulkinamasis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. sputter etching vok. Zerstäubungsätzen, n rus. травление методом распыления, n pranc. décapage par pulvérisation, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Etching (microfabrication) — Etching tanks used to perform Piranha, Hydrofluoric acid or RCA clean on 4 inch wafer batches at LAAS technological facility in Toulouse, France Etching is used in microfabrication to chemically remove layers from the surface of a wafer during… … Wikipedia
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Ohmic contact — An ohmic contact is a region on a semiconductor device that has been prepared so that the current voltage (I V) curve of the device is linear and symmetric. If the I V characteristic is non linear and asymmetric, the contact is not ohmic, but is… … Wikipedia
Zerstäubungsätzen — dulkinamasis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. sputter etching vok. Zerstäubungsätzen, n rus. травление методом распыления, n pranc. décapage par pulvérisation, m … Radioelektronikos terminų žodynas
dulkinamasis ėsdinimas — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. sputter etching vok. Zerstäubungsätzen, n rus. травление методом распыления, n pranc. décapage par pulvérisation, m … Radioelektronikos terminų žodynas
décapage par pulvérisation — dulkinamasis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. sputter etching vok. Zerstäubungsätzen, n rus. травление методом распыления, n pranc. décapage par pulvérisation, m … Radioelektronikos terminų žodynas
травление методом распыления — dulkinamasis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. sputter etching vok. Zerstäubungsätzen, n rus. травление методом распыления, n pranc. décapage par pulvérisation, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Sputtering — is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic ions. It is commonly used for thin film deposition, etching and analytical techniques (see below). Physics of sputtering Physical… … Wikipedia
RIE — Plasma unterstütztes Ätzen ( physikalisch chemisches Ätzen) bezeichnet eine Gruppe von subtraktiven (abtragenden) Mikrostrukturverfahren in der Halbleitertechnologie. Als Trockenätzverfahren stellen eine alternative Strukturierungverfahren zu dem … Deutsch Wikipedia